| 電子光學系統 | 電子槍類型 | 預對中型發叉式鎢燈絲電子槍 |
| 分辨率 | 2.5 nm @ 20 kV | |
| 4 nm @ 3 kV | ||
| 5 nm @ 1 kV | ||
| 放大倍率 | 1 x～300,000 x | |
| 加速電壓 | 0.1 kV～30 kV | |
| 成像系統 | 探測器 | 二次電子探測器（ETD）、鏡筒內電子探測器 |
| *背散射電子探測器、*能譜儀EDS等 | ||
| 圖像保存格式 | TIFF、JPG、BMP、PNG | |
| 真空系統 | 真空模式 | 優于5×10-4 Pa |
| 控制方式 | 全自動控制 | |
| 樣品室 | 攝像頭 | 光學導航 |
| 樣品倉內監控 | ||
| 樣品臺配置 | 五軸自動 | |
| 軟件 | 語言 | 中文 |
| 操作系統 | Windows | |
| 導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | |
| 自動功能 | 自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 |
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